炒股就看金麒麟分析師研報，光刻權威，膠領(lǐng)專(zhuān)業(yè)，域國及時(shí)，新突全面，光刻助您挖掘潛力主題機會(huì )！膠領(lǐng)

　　每經(jīng)AI快訊，域國光刻技術(shù)是新突推動(dòng)集成電路芯片制程工藝持續微縮的核心驅動(dòng)力之一。近日，光刻北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團隊及合作者通過(guò)冷凍電子斷層掃描技術(shù)，膠領(lǐng)首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的域國微觀(guān)三維結構、界面分布與纏結行為，新突指導開(kāi)發(fā)出可顯著(zhù)減少光刻缺陷的光刻產(chǎn)業(yè)化方案。相關(guān)論文近日刊發(fā)于《自然·通訊》。膠領(lǐng)

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